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真空管式炉
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GSL-2000X-HV2000℃高真空气氛烧结炉
2000℃高真空气氛烧结炉是一款高温高真空气氛烧结炉,根据不同的加热元件模块,烧结温度可从1600℃到2000℃,此款烧结炉的真空度可高达10-6Torr(分子泵)。
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带有光学窗口的高温高压炉--OTF-1200X-HP-III-W
OTF-1200X-HP-III-W是一款带有石英窗口的高温高压炉,炉管采用高温镍基合金钢制作,可承受的Z高温度为1100℃。两端法兰上都安装有石英窗口,可允许各种波长的光通过整个炉管。所以,此款管式炉特别适合在高温高压的环境下进行光学气体分析实验。
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1100℃高压炉-OTF-1200X-HP-55
OTF-1200X-HP-55是一款通过CE认证的开启式管式炉,其炉管采用无缝镍基合金管,此款设备专为高温高压实验设计,Z高压力高达20MPa,Z高温度可达1100℃,并可通入多种氧化或惰性保护气体。对于高压制备新材料和作为小型热等静压处理合金样品,这是一款理想的高温管式炉。
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OTF-1200X-HP-30A1100℃真空管式炉
OTF-1200X-HP-30A是一款小型的高温高压管式炉,其炉管法兰上安装有高压电磁阀和压力传感器,所以当管内气压高于设定值时,电磁阀会自动打开排气,使管内气压达到设定值。其炉管采用镍基合金钢管制作,其尺寸为30mm O.D x 12 mm I.D x 560 mm L。
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12升1700℃氢气炉-KSL-1700X-H2
KSL-1700X-H2是一款通过CE认证的高温箱式炉,此款仪器专门针对于材料在氢气环境或惰性气体环境进行烧结或是退火,其Z高温度可高达1700℃。KSL-1700X-H2采用氧化铝纤维作为炉膛材料(炉膛尺寸为8“x 8“x12“),以钼丝作为加热元件,炉体顶部密封板中嵌有冷却水管,以保证仪器工作时的密封性能。对需在惰性气体或还原性气体环境下烧结的材料(如荧光材料,钛合金等),KSL-17
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氢气双温区回转炉--OTF-1200X-R-60HG
OTF-1200X-R-60HG是一款通过CE认证的氢气双温区旋转管式炉,此款仪器专门针对于材料在氢气环境或惰性气体环境进行烧结或是退火,也可针对于粉料的混烧,Z高工作温度可以达到1200度,炉管内部焊有4片杨料板,仪器运行时炉管可以360°转动,可以增加粉料烧结的均匀性。
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8英寸高真空&氢气管式炉--GSL-1200X-H8
GSL-1200X-H8管式炉拥有三个独立控制的加热区,炉管材料为SS310不锈钢,Z高工作温度为800℃。此款管式炉专门设计为样品在流动的氢气气氛或高真空环境下(Z高真空度可达10E-5 tor)对材料进行热处理。此管式炉的密封采用高真空CF法兰,并配有自动点火器和氢气探测器,使得实验地安全。
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双温区湿度可控氢气热处理炉--OTF-1200X-II-80HG
OTF-1200X-II-HG是一款双温区湿度可控氢气热处理炉,此设备带有两通道气体控制器,气液混合罐,露点仪和氢气探测器,此设备专门设置对材料进行湿氢处理,以达到材料表面部分氧化,同时也进行各种CVD实验。精密露点仪测量精度可以达到 +/-1.5%RH。若有实验中发生氢气微露现象(氢气爆炸点的10%),3M公司的氢气探测器将发生报警信号,使整个实验在安全的环境下进行。
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(CSS)OTF-1200X-RTP-II-55英寸近距离蒸发镀膜炉
OTF-1200X-RTP-II-5是一款快速热处理炉,其炉腔体是一直径为11英寸的石英管。5英寸近距离蒸发镀膜炉针对于热蒸发或CSS(Close Spaced Sublimation)镀膜实验,其镀膜面积可达到5“x5“。
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小型1000℃RTP炉OTF-1200X-4-RTP
OTF-1200X-4-RTP 是一款精巧型快速热处理管式炉,配有4“ 石英管和真空法兰, 它是专为半导体或太阳能电池基片(Z大达3“)的退火而设计,采用10KW红外灯管加热Z快升温速度为 50°C/秒. 30 段温度控制,精度为 +/-1°C. 计算机通过RS485口和控制软件实时控制炉子和显示温度曲线 。
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1200°C迷你型快速加热冷却炉
OTF-1200X-50-SL是一款CE认证的可滑动管式炉,配置外径50x 1000mm石英管,工作温度Z高达1200°C。炉底安装一对滑轨,可滑动。加热和冷却速率Z大可达100°C/m。为取得Z快加热,可以预先加热炉子到设定的温度,然后移动炉子到样品位置。为获得Z快冷却,可在样品加热后移动炉子到另一端。加热和冷却速率在真空或者惰性气体环境下可以达到15°C/s,是低成本快速热处理的理想。
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4英寸真空立式淬火炉--OTF-1200X-4-VTQ
OTF-1200X-4-VTQ是立式可开启真空管式淬火炉,石英管直径100mm,配有一个密封的液体容器用于样品淬火,温度从Z高1200度到冰水或油,可用于研究材料相转变和微结构性能。
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1200℃双温立式炉-OTF-1200X-4-VT-II
OTF-1200X-4-VT-II是通过CE认证的双温区立式管式炉,其炉管直径可制作为100mm,适合于对样品在真空或气氛保护环境下进行吊烧和淬火。炉体下端安装有一移动架以方便与移动。采用PID方式进行温度调节,可设置30段升降温程序,控温精度为+/- 1 ℃.
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颗粒悬浮立式管式炉--OTF-1200X-S-FB
OTF-1200X-S-FB是一款流化床立式管式炉,专门针对粉末表面沉积的CVD实验,炉管为高纯石英管,炉管内部嵌有一多孔石英板,石英板的孔径为5-15um.粉末可放在多孔石英板上,气体可从炉管下端通入,通过多孔石英板使样品颗粒悬浮在加热区域,进行沉积实验。
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1200℃开启式立式炉-OTF-1200X-80-VT
OTF-1200X-80-VT 是一款已通过CE认证的可开盖垂直管式气氛炉,能够实现在真空或气氛保护条件下对样品快速升降温,石英管尺寸Φ80mm,30段可编程温度控制器,控温精度±1℃。炉体垂直安装在可移动的支架上方便炉管的取放。
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