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TCVD--OTF-1200X-S2-5小型双炉体滑动管式炉TCVD--OTF-1200X-S2-50SL
OTF-1200X-S2-50SL是一款小型的双炉体滑动管式炉,炉管为Φ50×1400mm的石英管,并配有不锈钢密封法兰,仪器Z高温度可以达到1200℃。两个炉体可在滑轨上滑动,实现对原材料的蒸发/升华,及薄膜沉积。通过炉体的滑动可实现对样品快速加热,Z大升温速率为100℃/min.同时可选择电动滑轨、质量流量计(MFC)控制的供气系统和等离子射频电源来搭建TCVD系统。
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OTF-1200X-4-VTQ真空立式淬火炉--OTF-1200X-4-VTQ
OTF-1200X-4-VTQ是立式可开启真空管式淬火炉,石英管直径100mm,配有一个密封的液体容器用于样品淬火,温度从Z高1200度到冰水或油,可用于研究材料相转变和微结构性能。
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VTC-16-SM2单靶直流磁控溅射仪
VTC-16-SM是一款桌面式等离子磁控溅射镀膜仪,包含一个2英寸水冷靶头和可旋转样品台,外形小巧,性价比高,是制作各种金属薄膜理想的镀膜设备,可选配各种金属靶材和真空泵。
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GSL-1800X-PGEPGSL-1800X-PGEP超声雾化及静电沉降1800℃纳米制备管式炉--GSL-1800X-PGE
GSL-1800X-PGEP是一款多功能的合成系统,针对于合成各种纳米结构氧化物。此款仪器有三个主要模块组成:超声雾化装置、1800℃管式炉和静电沉降装置组成。材料制作大概分为三个步骤:前驱体雾化、加热和纳米颗粒收集。此款系统是一款非常先进的合成系统,可控制器颗粒尺寸,形态,纳米/微粒结构。
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GSL-1700X-VTQGSL-1700X-VTQ1700℃立式淬火炉--GSL-1700X-VTQ
GSL-1700X-VTQ是一款通过UL认证的立式真空管式淬火炉,标配有直径60mm的莫来石管和一个用于样品淬火的液体密封容器。该设备实验时可以使样品从高温环境下(Z高1700度)快速落入冰水或油中,非常适合用于研究材料相变和微结构性能。
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OTF-1200X-SFOTF-1200X-SF含滑轨法兰的管式炉--OTF-1200X-SF
OTF-1200X-4-SF是一款炉管尺寸为100mm,带有滑轨法兰的管式炉,Z高工作温度为1200℃,此款管式炉专为客户自己搭建CVD系统而设计。
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SP-85KTCSP-85KTC2000℃温度可控型30KW感应加热炉
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KSL-1200X-AC-5S是一款气氛箱式炉,炉膛内有5个加热面,使得炉膛内部的温场更加均匀。此款设备专门针对材料在惰性气氛保护的环境下进行热处理,其Z高处理温度为1200℃。采用高纯氧化铝纤维作为炉膛材料,4001com登录入口表面涂有高温氧化铝涂层,可提高加热效率增加温度均匀性同时也极大地延长炉膛使用寿命。加热元件采用Kanthal 1350℃级掺钼Fe-Cr-Al电阻丝(为延长其使用寿命,表面涂有氧化锆涂层
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