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CE-600、800自动清洗机
CE-600、800自动清洗机是专门用于晶圆、QFN、玻璃、基板、手机模组和陶瓷等切割后的清洗设备。此系列为二流体清洗方案,采用可编辑控制器+全彩色触摸屏为操作系统,令设备性能更加稳定、操作便捷。采用特殊内部结构设计能均匀混合,产生细微液滴尺寸的喷雾或粗液滴喷雾。通常通过增加气压或降低液体压力可得到更加细微的液滴。从而导致交到的气体流率和液体流率比,形成较大冲击波,有效对切割道内的细微粉尘进行*
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CE-600800自动清洗机
CE-600、800自动清洗机是专门用于晶圆、QFN、玻璃、基板、手机模组和陶瓷等切割后的清洗设备。此系列为二流体清洗方案,采用可编辑控制器+全彩色触摸屏为操作系统,令设备性能更加稳定、操作便捷。采用特殊内部结构设计能均匀混合,产生细微液滴尺寸的喷雾或粗液滴喷雾。通常通过增加气压或降低液体压力可得到更加细微的液滴。从而导致交到的气体流率和液体流率比,形成较大冲击波,有效对切割道内的细微粉尘进行*
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VTC-200-CE半柜式清洗机
VTC-200-CE半柜式清洗机采用直线导轨控制柱状液流沿 wafer.半径方向来回扫动,同时配备有去离子水淸洗和氮气吹干功能,采用高精度伺服电机控制 wafer的旋转,由七寸全彩触屏进行操作,全不锈钢机柜,耐腐蚀透明观察盖,丝杆直线导轨,不锈钢内腔,设计合理,经久耐用。伺服马达控制旋转速度和时间,自动控制显影、清洗和吹干,显影/清洗均匀性和重复性好。
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PCE-22紫外臭氧清洗机
PCE-22紫外臭氧清洗机是一款可加热型的紫外臭氧清洗机,其加热温度可达150℃。此款设备可用于清洗各种基片,为制作高质量的薄膜打好基础。特别适合移除光刻胶,改善表面润湿性,清洗SEM &TEM,紫外对聚合物改性等。 紫外臭氧清洗提供了一种无酸、干燥对材料无损伤的原子级别的清洗手段,特别适合清除一些有机化合物。紫外灯主要发出两种波长的光:185nm和254nm。
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PCE-6小型-等离子清洗机
PCE-6小型等离子清洗机的等离子腔体为 Ø160mm×190mm的石英腔体,采用的射频电源功率为3.0MHz(1%),输出功率7.2W、10.2W、29.6W三档可调。本机主要是通过空气、氧气或氩气等气体的等离子体来去除基片上的氧化层和污染物,同时也可改变物体表面的性质(如亲水和疏水性等),对于基片的清洗以及薄膜处理是较为理想的设备。PCE-6小型等离子清洗机体积小,占用的空间少,
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VGT-1620QTD超声波清洗机
VGT-1620QTD超声波清洗机是一款利用超声波高频率振动对物品进行清洗的原理,主要用于清洗眼镜、珠宝首饰、钟表等,并可在机械、纺织、电子、化纤、石油化工、医药、大专院校、科研实验室、超硬材料及军工等行业中应用,可以清理一般清洗工具达不到的地方,实现无损伤清洗。VGT-1620QTD超声波清洗机可以对清洗时间进行设定,时间到设备自动停止;也可以对被清洗物品进行加热,加热温度不超过80℃,用于清洗
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